Nwy purdeb uchel Falf diaffram niwmatig dur gwrthstaen 1/4 modfedd pwysedd uchel
Disgrifiad o'r Cynnyrch
Manyleb y falf diaffram niwmatig
| Data Technegol | ||
| Maint porthladd | 1/4 ″ | |
| Cyfernod Rhyddhau (CV) | 0.2 | |
| Pwysau gweithio uchaf | Llawlyfr | 310 bar (4500 psig) |
| Niwmatig | 206 bar (3000 psig) | |
| Pwysau gweithio actuator niwmatig | 4.2 ~ 6.2 bar (60 ~ 90 psig) | |
| Tymheredd Gwaith | PCTFE ： -23 ~ 65 ℃ （-10 ~ 150 ℉）） | |
| Cyfradd Gollyngiadau (Heliwm) | y tu mewn | ≤1 × 10-9 mbar l/s |
| allanol | ≤1 × 10-9 mbar l/s | |
| Llifo data | ||
| aer @ 21 ℃ （70 ℉） dŵr @ 16 ℃ （60 ℉）） | ||
| Gollwng pwysau'r bar pwysedd aer uchaf (PSIG) | AIR (Lmin) | dŵr (l/min) |
| 0.68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Proses lanhau
▶ Safon (WK-BA)
Rhaid glanhau'r holl gymalau wedi'u weldio yn unol â manylebau glanhau a phecynnu safonol y cwmni.
Wrth archebu, nid oes angen ychwanegu ôl -ddodiad
Glanhau Ocsigen (WK-O2)
Gellir darparu manylebau glanhau a phecynnu cynnyrch ar gyfer amgylchedd ocsigen. Mae'r cynnyrch hwn yn cwrdd â'r
Gofynion Glendid ASTMG93C. Wrth archebu, ychwanegwch - O2 ar ôl rhif y gorchymyn
▶ Purdeb Ultra Uchel (WK-EP)
Yn gallu darparu gorffeniad arwyneb rheoledig, gan electropolishio RA0 tri ar ddeg μ m. Deionized
Glanhau Ultrasonic Dŵr. I archebu, ychwanegu - EP ar ôl rhif y gorchymyn
Rhaid glanhau'r holl gymalau wedi'u weldio yn unol â manylebau glanhau a phecynnu safonol y cwmni.
Wrth archebu, nid oes angen ychwanegu ôl -ddodiad
Glanhau Ocsigen (WK-O2)
Gellir darparu manylebau glanhau a phecynnu cynnyrch ar gyfer amgylchedd ocsigen. Mae'r cynnyrch hwn yn cwrdd â'r
Gofynion Glendid ASTMG93C. Wrth archebu, ychwanegwch - O2 ar ôl rhif y gorchymyn
▶ Purdeb Ultra Uchel (WK-EP)
Yn gallu darparu gorffeniad arwyneb rheoledig, gan electropolishio RA0 tri ar ddeg μ m. Deionized
Glanhau Ultrasonic Dŵr. I archebu, ychwanegu - EP ar ôl rhif y gorchymyn
 | Prif ddeunyddiau strwythurol | ||
| Cyfresol | elfen | gwead deunydd | |
| 1 | Thriniaf | alwminiwm | |
| 2 | Actuator | alwminiwm | |
| 3 | Coesyn falf | 304 SS | |
| 4 | Bonet | S17400 | |
| 5 | Cnau Bonet | 316 SS | |
| 6 | Fotymon | mhres | |
| 7 | diaffram (5) | Aloi cobalt nicel | |
| 8 | sedd falf | Pctfe | |
| 9 | Falf Corff | 316L SS | |
Dimensiynau a gwybodaeth archebu
Math Straight Trwy
maint
Mae'r dimensiynau mewn modfeddi (mm) ar gyfer cyfeirio yn unig
maint
Mae'r dimensiynau mewn modfeddi (mm) ar gyfer cyfeirio yn unig
| Rhif Gorchymyn Sylfaenol | Math a maint porthladd | sizein. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4 ″ Tiwb -W | 0.44 (11.2) | 0.30 (7.6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0.44 (11.2) | 0.86 (21.8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 ″ MA-MCR1/4 | 0.44 (11.2) | 0.58 (14.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0.44 (11.2) | 0.70 (17.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
Diwydiannau dan sylw
TFT-LCD
Y broses nwyon arbennig a ddefnyddir yn y broses ddyddodi CVD o broses weithgynhyrchu TFT-LCD yw silane (S1H4), amonia (NH3), ffosffin (pH3), ocsid nitraidd (N2O), NF3, ac ati yn ogystal, yn ogystal â hydrogen purdeb uchel ac mae purdeb uchel yn gysylltiedig â budr a bwtiau eraill. Defnyddir Argon yn y broses sputtering, a'r ffilm sputtered sy'n ffurfio nwy yw'r prif ddeunydd ar gyfer sputtering. Yn gyntaf, mae'n ofynnol na all y nwy sy'n ffurfio ffilm ymateb gyda'r targed, a'r nwy mwyaf priodol yw nwy anadweithiol. Bydd llawer iawn o nwy arbennig hefyd yn cael ei ddefnyddio yn y broses ysgythru, tra bod y nwy arbennig electronig ar y cyfan yn fflamadwy, yn ffrwydrol ac yn wenwynig iawn, felly mae'r gofynion ar gyfer cylched a thechnoleg nwy yn uchel iawn. Mae technoleg WOFEI yn arbenigo mewn dylunio a gosod system trosglwyddo nwy arbennig purdeb uchel iawn.
Defnyddir nwyon arbennig yn bennaf wrth ffurfio ffilmiau ac ysgythru sych yn y diwydiant LCD. Mae yna lawer o fathau o LCD, a TFT-LCD yn eu plith yw'r dechnoleg LCD a ddefnyddir fwyaf oherwydd ei hamser ymateb cyflym, ansawdd delweddu uchel a chost is yn raddol. Gellir rhannu proses weithgynhyrchu panel TFT-LCD yn dri cham: arae flaen, cynulliad modiwl celloedd canol a chefn. Defnyddir y nwy arbennig electronig yn bennaf yng nghamau ffurfio ac ysgythru sych y broses arae flaen. Ar ôl prosesau ffurfio ffilmiau lluosog, mae ffilmiau anfetelaidd SINX a ffilmiau metel fel grid, ffynhonnell, draen ac ITO yn cael eu hadneuo ar y drefn yn y drefn honno ar y swbstrad.
C1. Beth am yr amser arweiniol?
A: Mae angen sampl 3-5 diwrnod, mae angen 1-2 wythnos ar amser cynhyrchu màs ar gyfer maint archeb yn fwy na
C2. Oes gennych chi unrhyw derfyn MOQ?
A: Moq 1 Pic isel.
C3. Sut ydych chi'n anfon y nwyddau a pha mor hir mae'n ei gymryd i gyrraedd?
A: Rydyn ni fel arfer yn llongio gan DHL, UPS, FedEx neu TNT. Mae fel arfer yn cymryd 5-7 diwrnod. Llongau cwmni hedfan a môr hefyd yn ddewisol.
C4. Sut i fwrw ymlaen â gorchymyn?
A: Yn gyntaf, gadewch i ni wybod eich gofynion neu'ch cais.
Yn ail, rydym yn dyfynnu yn unol â'ch gofynion neu ein hawgrymiadau.
Yn drydydd, mae'r cwsmer yn cadarnhau'r samplau ac yn gosod adneuo ar gyfer trefn ffurfiol.
Yn bedwerydd rydym yn trefnu'r cynhyrchiad.
Ysgrifennwch eich neges yma a'i hanfon atom
